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日本 CKD 喜開理延遲真空電磁閥 HVL12 詳解

更新時間:2025-10-09點擊次數(shù):50

日本 CKD 喜開理延遲真空電磁閥 HVL12 詳解(核心參數(shù)、優(yōu)勢、型號組成)

日本 CKD 喜開理作為流體控制領域,其 HVL12 系列延遲真空電磁閥專為高精密真空系統(tǒng)設計,憑借精準的延遲控制與優(yōu)異的密封性能,廣泛應用于半導體制造、真空鍍膜、電子元件封裝等工業(yè)場景。以下從核心參數(shù)、產(chǎn)品優(yōu)勢、型號組成三方面進行全面解析。

一、核心參數(shù)

HVL12 系列采用直動式結構與特殊密封技術,在真空保持與延遲控制方面表現(xiàn)突出,關鍵參數(shù)如下表所示:
參數(shù)類別具體規(guī)格說明來源
基礎參數(shù)節(jié)流孔徑:1.2mm
配管口徑:Rc1/8、1/4″雙卡套接頭、NW10.16 真空夾緊接頭
Cv 值:0.05

真空性能使用壓力范圍:1.3×10??~2.0×10?Pa(abs)
閥座泄漏量:≤1.3×10??Pa?m3/s(He)
外部泄漏量:≤1.3×10??Pa?m3/s(He)

壓力特性最高工作壓力差:0.2MPa
耐壓力:0.5MPa

電氣參數(shù)額定電壓:DC24V、AC100V、AC200V
電壓波動范圍:額定電壓 ±10%
功耗:4W
延遲時間:AC≤8s、DC≤10s(誤差 ±35%)

環(huán)境適配流體溫度:5~50℃
環(huán)境溫度:0~50℃
適用流體:干燥空氣、氮氣

物理參數(shù)安裝方式:自由安裝
重量:AC 型 0.5kg、DC 型 0.2kg(Rc1/8 接口)
動作頻率:≤0.5 次 / 分鐘

注:流體需保持干燥,否則可能顯著縮短產(chǎn)品耐久性;DC 型具有極性,需按紅正黑負接線。

二、產(chǎn)品優(yōu)勢

1. 高真空密封,保障系統(tǒng)潔凈

采用特殊密封材質與閥座結構設計,泄漏量控制在 1.3×10??Pa?m3/s 以下,可滿足高真空系統(tǒng)的嚴苛要求。在半導體晶圓制造等場景中,能有效防止外部雜質侵入真空腔室,避免產(chǎn)品污染導致的良率下降。同時,斷電后可維持真空狀態(tài),配合延遲功能實現(xiàn)腔室保護。

2. 精準延遲控制,規(guī)避停機電污染

內(nèi)置斷電延遲模塊,可根據(jù)電壓類型設定 8 秒(AC)或 10 秒(DC)的延遲時間,精準控制真空腔室的大氣開放時序。在真空鍍膜設備中,能確保真空泵與腔室之間的管路先泄壓,再開放大氣,避免停電時油分倒灌污染腔室,降低設備維護成本。

3. 緊湊結構設計,適配狹小安裝空間

采用薄型線圈與一體化閥體設計,重量最輕僅 0.2kg,且支持自由安裝方式,可靈活嵌入真空鍍膜機、電子束加工機等空間受限的設備內(nèi)部。搭配多種標準化真空接頭,能快速與現(xiàn)有管路對接,減少安裝工時。

4. 寬域參數(shù)適配,滿足多元場景需求

覆蓋從高真空(1.3×10??Pa)到常壓(2.0×10?Pa)的全壓力范圍,適配空氣、氮氣等多種惰性氣體介質。提供 DC24V、AC200V 等常見電壓選項,可直接匹配工業(yè)設備的電源系統(tǒng),無需額外配置變壓器。

三、型號組成解析

CKD HVL12 系列型號采用模塊化編碼規(guī)則,通過后綴組合明確產(chǎn)品規(guī)格,以典型型號HVL12-4S6-5-AC200V為例,各部分含義如下:
型號分段代碼含義可選規(guī)格示例
HVL12系列代號:HVL 表示延遲真空電磁閥,12 為基礎型號標識固定為 HVL12
4S6結構參數(shù):前兩位表示節(jié)流孔徑相關規(guī)格,后一位為配管接口類型4S6(Rc1/8 接口)、5S8(1/4″雙卡套)
5安裝與功能選項:代表標準安裝方式及基礎功能配置5(標準型)、6(帶手動應急機構)
AC200V電氣規(guī)格:明確額定電壓類型與數(shù)值DC24V、AC100V、AC200V

型號選型說明

  • 接口選擇:需根據(jù)管路尺寸匹配 Rc 螺紋或雙卡套接頭,例如半導體設備常用 NW10.16 真空夾緊接頭,可對應選型代碼為 “7S10" 的型號。

  • 電壓匹配:工業(yè)自動化設備優(yōu)先選擇 DC24V 型號,傳統(tǒng)動力系統(tǒng)可適配 AC100V/200V 規(guī)格,選型時需確認設備電源波動范圍是否在 ±10% 以內(nèi)。

  • 功能擴展:部分特殊型號帶手動應急閥桿,在斷電且無需延遲功能時可手動操作,對應代碼為 “6",適合對設備可用性要求的場景。

應用場景延伸

該產(chǎn)品目前已廣泛應用于三大領域:一是電子制造,如 LCD 面板真空貼合設備的腔室壓力控制;二是精密儀器,在分子加速器的真空管路中實現(xiàn)安全泄壓;三是新材料加工,配合真空燒結爐完成陶瓷制品的無氧燒結過程。


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